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智慧涌动成果丰硕 第四届中国企业论坛助推济南加快高质量发展

2025-07-02 00:10:23教育发展 作者:admin
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丰硕发展(b)基于石墨烯的FET器件的结构示意图。届中【背景介绍】可控的制备高质量石墨烯是实现其在各领域广泛应用的重大挑战。国企(d)器件在VDS=-1V时的转移曲线。

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【小结】综上所述,坛助推济作者开发了一种前体修饰的化学气相沉积策略,用于在电介质基底上制备出高质量的石墨烯。南加(g-i)图a-c中石墨烯薄片的粒径的直方图。

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制备的均匀单层石墨烯的FET器件表现出优异的电性能,快高其载流子迁移率高达3800cm2V-1s-1。

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